株式会社クオルテックのプレスリリース
立命館大学発ベンチャー、Patentix株式会社（本社：滋賀県草津市、代表取締役社長：衣斐豊祐、以下「PATENTIX」）は、資本業務提携（※1）先である株式会社クオルテック（本社：大阪府堺市、代表取締役社長：山口友宏、以下「クオルテック」）がGeO₂（※2）の有償サンプルの出荷検査を行うことで、PATENTIXとクオルテックが基本合意いたしました（2024年8月１日付）。
今後、PATENTIXとクオルテックの２社が共同研究開発の拠点としている滋賀県立テクノファクトリーにて、PATENTIXはGeO₂の研究開発及び製造を行い、クオルテックは検査設備を導入し出荷前検査を行うことになります。
＜本基本合意の背景＞
PATENTIXが開発を進めるGeO₂は、従来と比べて10倍以上性能が向上すると期待されていますが、
GeO₂はルチル型結晶の作製が困難でした。
PATENTIXは独自開発したPhantomSVD®法により、GeO₂のルチル型単結晶膜の作製に世界で初めて成功しました。その結果、本年度10月頃より共同開発先などに対しGeO₂ウエハの有償サンプルの出荷を始める運びとなりました。
＜今後の展開＞
今後も引き続きGeO₂の研究開発から製造販売まで一気通貫で推し進め、GeO₂ウエハの早期供給を可能とする企業群を形成し、琵琶湖半導体構想（案）の推進とともに、世界に勝てる日本発のパワー半導体産業の実現に寄与いたします。
※1 資本業務提携：2023年12月19日締結。
＜提携の内容＞
クオルテック
・ PATENTIXへ出資（5,000万円）
・ GeO₂半導体、GeO₂半導体ウエハ、GeO₂半導体デバイスの共同研究開発
・ GeO₂半導体、GeO₂半導体ウエハ、GeO₂半導体デバイスの評価（分析・試験）
・ GeO₂半導体、GeO₂半導体ウエハ、GeO₂半導体デバイスの製造
・ PATENTIXのGeO₂半導体研究開発に対する各種支援
PATENTIX
・ GeO₂半導体に関する技術情報の提供
・ GeO₂半導体、GeO₂半導体ウエハ、GeO₂半導体デバイスの共同研究開発
・ GeO₂半導体の研究開発
・ 当社の半導体製造事業に対する各種支援
※2 GeO₂半導体：(PATENTIX社ホームページより)
GeO₂は、ルチル構造、α石英構造、CaCl2 タイプ、α-PbO2 タイプ、pyriteタイプの5つの結晶多型をもちます。その中でもルチル構造r-GeO₂ は、4.6eVという巨大なバンドギャップをもち、ｎ型、ｐ型の両伝導が理論予測されている事から次世代の高性能Normally-off型MOSFET等への応用が期待されています。
■会社概要
社名：株式会社クオルテック
代表取締役社長：山口友宏
本社所在地：大阪府堺市堺区三宝町4丁230番地
事業内容：●電子部品の不良解析・信頼性試験の受託および新技術の開発
●品質管理を中心とした工場経営、実装技術に関するコンサルタント
●レーザ加工・表面処理（めっき）技術を中心とした微細加工
●試験装置の設計・開発・製造・販売
社名：Patentix株式会社
代表取締役社長：衣斐豊祐
本社所在地：滋賀県草津市野路東1丁目1番1号 立命館大学BKCインキュベータ
HP：https://www.patentix.co.jp/
事業内容：新規機能性材料の研究開発、製造販売、各種研究成果の社会実装事業など、持続可能な人類社会の実現を目指し、事業を行う。世界初のシリコンカーバイド上のルチル構造二酸化ゲルマニウム製膜（特許出願済）に成功し、2023年9月に欧州最大の材料学会「E-MRS」においてその成果を発表、注目を集めている。
